Características:
Fuente de rayos X: Fuente estándar de Aluminio y Magnesio. Fuente monocromática de Aluminio. Opciones: Cuenta con una fuente de iones Argón para erosionado superficial iónico. Áreas de análisis de 1 mm, 0.2mm y 0.03 mm. Permite realizar perfiles de composición y estado químico respecto a la profundidad. Cuenta con cañon de electrones para neutralizar carga superficial en materiales aislantes, capacidad para realizar mapeos y reflectancia total.Aplicaciones:
La espectroscopía fotoelectrónica de rayos X es una técnica de análisis elemental cualitativa que permite estudiar la superficie de los materiales. El análisis se hace sobre las capas más cercanas a la superficie (alrededor de 5 nm de profundidad). Esta técnica permite detectar todos los elementos con números atómicos mayores a 2. Una gran ventaja respecto a otras técnicas es que permite determinar el estado químico de los átomos que se encuentran en la muestra (por ejemplo si los átomos de carbono están unidos a átomos de oxígeno, estado de oxidación, etc.). Es una técnica muy utilizada para películas delgadas, catalizadores metálicos, microchips, polímeros, entre otros materiales.
Equipo disponible:
Equipo de Espectroscopía Fotoelectrónica de Rayos X, JEOL JPS-9200
Responsables:
M. en C. Gustavo López Téllez
Dr. Alfredo Rafael Vilchis Nestor
Dra. Dora Alicia Solís Casados
Dr. Óscar Fernando Olea Mejía
Ubicación
Edificio B, planta baja
Tel. (722) 2766610 Ext. 7765
Documentos:
Lineamientos (PDF)
Protocolo de recepción de muestras (PDF)
Solicitud de servicio (PDF)
Información sobre servicio de análisis externos:
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